Dépôt physique en phase vapeur (PVD)

Qu'est-ce que la PVD ?

Le dépôt physique en phase vapeur (PVD) est une technologie qui, dans des conditions de vide, utilise des méthodes physiques pour vaporiser des matériaux solides ou liquides en atomes gazeux, en molécules ou en ions partiellement ionisés. Ceux-ci sont ensuite déposés sur la surface du substrat par un processus gazeux (ou plasma) à basse pression pour former un film mince ayant des fonctions spécifiques.

La technologie PVD permet de déposer non seulement des films métalliques et des films d'alliage, mais aussi des films composés, des films céramiques, des films semi-conducteurs et des films polymères. Il s'agit d'une technologie de traitement de surface relativement nouvelle.

FirstMold utilise la technologie PVD (par l'intermédiaire de fournisseurs coopératifs) principalement dans les scénarios de moules en plastique, de moules de coulée sous pression et de prototypes CNC.

Applications industrielles

Technologie portable

Communications mobiles

Bijoux en métal

Accessoires de quincaillerie

Composants automobiles

Dispositif médical

Industrie des moules

Industrie horlogère

Avantages de l'anodisation pour votre produit

Dureté élevée

Revêtement en nickel : 180HV
Aluminium : 100HV
Anodisation : 300HV
Chromage : 800HV
PVD : 1600HV

Excellente adhérence

Les pièces traitées par PVD peuvent être pliées à plus de 90 degrés sans se fissurer ni s'écailler, ce qui est supérieur aux autres techniques telles que la galvanoplastie et la pulvérisation.

L'attrait esthétique

Les revêtements sont disponibles dans une grande variété de couleurs, sont uniformément colorés, ont une surface lisse et délicate, possèdent un éclat métallique et ne se décolorent jamais.

Surface durable

Résistant aux rayures, difficile à rayer, ne s'écaille pas et ne se fissure pas facilement. Résistant à la corrosion, aux acides et à l'oxydation.

Respect de l'environnement

Bien que le processus de production émette des gaz résiduels qui doivent être filtrés, il entre essentiellement dans la catégorie de la fabrication écologique.

Prix du dépôt physique en phase vapeur

PVD Process	Description	Price
Évaporation	Le chauffage permet de vaporiser le matériau, qui se dépose ensuite sur le substrat en formant un film mince.	$
Pulvérisation	Utilise un faisceau d'ions pour bombarder le matériau, provoquant sa pulvérisation et la formation d'une fine pellicule sur le substrat.	$
Placage ionique	Utilise un faisceau d'ions à haute énergie pour déposer un matériau sur le substrat, souvent utilisé pour les revêtements durs.	$$
Arc PVD	Utilise la décharge d'arc pour former un film dense sur le substrat, souvent pour des revêtements décoratifs et fonctionnels.	$$$
Evaporation par faisceau d'électrons	Utilise un faisceau d'électrons pour chauffer le matériau, qui se vaporise et se dépose sur le substrat.	$$
Dépôt assisté par faisceau d'ions (IBAD)	Utilise un faisceau d'ions pour faciliter le dépôt, améliorant ainsi l'adhérence et la densité du film.	$$
Dépôt chimique en phase vapeur (CVD)	Le dépôt d'un film sur un substrat par des réactions chimiques, souvent pour des applications de semi-conducteurs et d'optique.	$$$
Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD)	Le plasma est utilisé pour améliorer le processus de dépôt chimique en phase vapeur, ce qui permet d'améliorer la qualité du film.	$$$